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紫外纳米压印胶
应用范围:
紫外纳米压印光刻胶,主要应用于半导体器件,
MEMS,结构图形化转移等相关领域。
产品特征:
1、粘度低:≤ 40mPa·S;
2、光引发阳离子聚合;
3、曝光能量:2J/cm2;
4、特征尺寸:20nm。
    紫外纳米压印胶牌号:

UV Nanoimprint Resist

Thickness@3500rpm

Quantity/100ml

Quantity/250ml

Quantity/500ml

PPNIL-UV01

100nm

PPNIL-UV02

200nm

PPNIL-UV03

300nm

PPNIL-UV05

500nm

NA

PPNIL-UV10

1um

NA

NA

   
    注:可根据客户需要,订制指定厚度的纳米压印胶(厚度偏差±10nm)。
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