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桌面式热压印设备
1、设备集成度高、操作简单易行;
2、最高温度可达250℃;
3、升温速度快2min可达到200℃;
4、降温速度快1min 由200℃降到50℃;
5、PLC/PC 控制可选;
桌面式热压印设备:
 热塑纳米压印技术主要的工艺流程:
         1、制备高精度掩模板,一般采用硬度大和化学性质稳定的SiC、Si3N4、SiO2 ,利用电子束蚀刻技术或反应离子蚀刻技术来产生图案;
         2、利用旋涂的方式在基板上涂覆光刻胶(热压印胶),常见的是PMMA和PS;
         3、加热至光刻胶(热压印胶)的玻璃化转换温度(Tg)之上50℃~100℃,然后加压于模板并保持温度和压力一段时间,粘流态光刻胶(热压印胶)填充掩模版图形空隙;
         4、降低温度至 Tg以下后脱模,将图形从模板转移到基片上的光刻胶(热压印胶);
         5、采用反应离子刻蚀去除残留光刻胶(热压印胶),就将图形转移到基板上。        注:为了减小空气气泡对转移图案质量的影响,整个工艺过程都要在小于1Pa的真空环境中进行。
   

桌面式热压印设备优点:
         1、设备集成度高、操作简单易行;
         2、最高温度可达250℃;
         3、升温速度快2min可达到200℃;
         4、降温速度快1min 由200℃降到50℃;
         5、PLC/PC 控制可选;

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